CPS納米粒度分析儀，有別于傳統(tǒng)方法，通過差示離心沉降原理為顆粒的精細區(qū)分提供新的解決方案
這種原理有以下幾點優(yōu)勢：
分辨率高：
同激光散射和顆粒計數法等方法比較，該方法有非常高的分辨率。對于只有 1%的顆粒差異分布的時候，該方法測定的結果仍然有好的分離效果。您能看到的是顆粒分布本身，而不是分布顆粒的混合圖。
靈敏度高：
低至 10-8 g 的樣品就可以滿足日常分析需要。
重復性高：
樣品結果在95%的典型置信度下，連續(xù)重復分析峰的重復性小 于+/-1% 或更好。
快速、高精度數模(A/D)轉換:
可用信號分辨率(即軟件操作的對象)決定于 數模轉換的過程。CPS系統(tǒng)使用的數模 轉換 可以實現在每秒31次取樣時保持20位以上的精 度，幾百萬分之一的誤差。
CPS高精度納米粒度儀的技術優(yōu)勢
CPS納米粒度分析儀?分辨率很高，它有效地結合了高速離心沉降(ZG24000轉/分)和激光法的優(yōu)點，使得整個儀器能夠達到極高的分辨率，優(yōu)良的靈敏度和重復性.
同激光散射和顆粒計數法比較，該方法有非常高的分辨率，能夠輕松鑒別雜質顆粒，污染顆粒或者外來顆粒。半峰寬為峰值粒度 1%，也就是說對于峰值差異只有1%的相鄰粒度兩個粒度峰，該儀器都可以有效地檢測并區(qū)分開來。儀器的分辨率如此高，得到的顆粒分布幾乎不受儀器的影響，測量終得到的是真實、可靠的顆粒分布。
極高的靈敏度, 低于10-8 g 活性樣品可以得到，少可以分析小于毫克乃至微克級的樣品。
高度可重復性的樣品結果; 連續(xù)重復分析峰的重復性小于±1% 或更好。
連續(xù)的離心操作；在分析連續(xù)樣品的時候，不需要儀器停止來清洗，需要極少的人工。
和傳統(tǒng)沉降法比較，更快的分析時間。速度的優(yōu)勢是基于更快的圓盤轉速以及更快的儀器檢測器響應。采用多階速度，分析速度可以小于通常情況下的1/20。
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